Aloi Titanium Ta9 yes mempunyai sifat teknologi dan mekanikal yang serupa dengan titanium tulen industri. Apabila jumlah PD ditambah kepada titanium mencapai 0.1% - 0.2%, kadar kakisan titanium dalam asid sulfurik dan asid hidroklorik berkurangan dengan ketara, dan apabila kandungan PD ditingkatkan lagi, kadar kakisan aloi hampir tidak berubah, tetapi apabila kandungan PD kurang daripada 0.05%, sebaliknya kadar kakisan meningkat, sebaliknya kadar kakisan meningkat. Apabila kepekatan asid rod aloi titanium adalah rendah, aloi titanium paladium yang mengandungi 0.13% PD mempunyai rintangan kakisan yang memuaskan, tetapi apabila kepekatan asid tinggi, ti-0.2pd mempunyai rintangan kakisan yang lebih baik, jadi lebih sesuai untuk menggunakan ti-0.2pd.
Data menunjukkan bahawa rintangan kakisan ti-0.2pd dalam medium penurun jelas lebih baik daripada titanium tulen industri, dan rintangan kakisan zon kimpalan ti-0.2pd adalah sama dengan logam asas. Berbanding dengan ti-0.2pd yang dinyahair dalam asid hidroklorik yang diisi dengan udara, potensi stabil ti-0.2pd dengan ketara beralih ke hadapan, dan kadar kakisan boleh dikurangkan sebanyak 10 kali ganda. Walau bagaimanapun, dalam larutan asid yang diisi dengan argon atau nitrogen, apabila larutan kakisan baru sentiasa diganti atau isipadu larutan sampel per unit luas meningkat, prestasi pempasifan ti-0.2pd berkurangan dengan ketara. Oleh itu, penggunaan ti-0.2pd dalam ketiadaan oksigen atau oksidan sepenuhnya harus dielakkan Sebilangan kecil paladium telah ditambah kepada aloi titanium ta9 untuk meningkatkan rintangan kakisannya dalam medium pengoksidaan, terutamanya keupayaan untuk menahan kakisan celah. Oleh itu, ia digunakan secara meluas dalam media menghakis seperti asid hidroklorik, asid sulfurik, asid fosforik, asid nitrik dan klorida.
